往复样品台单靶磁控镀膜仪是一款紧凑高效的实验室级镀膜设备，采用磁控溅射技术，可在真空环境下实现金属、合金、氧化物等多种材料的均匀镀膜。桌面型单靶磁控镀膜仪小型化设计适合科研院所、高校实验室及企业研发中心，满足小样品镀膜需求，兼顾高精度、操作便捷和低成本的特点

往复样品台单靶磁控镀膜仪是一款紧凑高效的实验室级镀膜设备，采用磁控溅射技术，可在真空环境下实现金属、合金、氧化物等多种材料的均匀镀膜。其小型化设计适合科研院所、高校实验室及企业研发中心，满足小样品镀膜需求，兼顾高精度、操作便捷和低成本的特点。

往复样品台单靶磁控镀膜仪适用范围：  

该设备可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控镀膜仪与同类设备相比，经过小型化设计，高度集成，体积小巧，可以放置于桌面上使用，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

单靶磁控镀膜仪核心特点

1.    小巧高效

o    桌面式设计，节省空间，适合实验室环境，无需复杂安装。

o    快速抽真空系统，缩短实验准备时间。

2.    单靶磁控溅射

o    支持1种靶材（如Au、Ag、Ti、ITO等），镀膜纯净，附着力强。

o    可调节溅射功率、气压和沉积时间，实现膜厚可控（纳米至微米级）。

3.    广泛兼容性

o    适用于硅片、玻璃、聚合物等多种基材。

o    可选配加热基片台，提升膜层致密性。

4.    用户友好

o    触摸屏或PC控制，参数可视化，操作简单。

o    模块化设计，便于维护和靶材更换。

• 单靶磁控镀膜仪技术参数：