离子源双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的实验室专用镀膜仪，设备配有两台直流电源，两台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等

三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪（镀铝型）。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个高性能直流电源，具有炼靶功能，有效去除铝靶表面的氧化层，十分适合镀铝等对空气十分敏感的材料。本设备结构紧凑功能完善便于使用，非常适合用于各类镀膜试验。

本设备为桌面型单靶磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备

本设备为桌面型不锈钢腔体单靶磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备

本设备为桌面型偏压单靶磁控溅射镀膜仪，可用于一般金属薄膜的制备。设备同时配有偏压电源，可以用来进行进行溅射前的等离子清洗和溅射过程中施加偏压