UPS三靶磁控溅射镀膜机是我公司自主研发的高性价比的磁控溅射镀膜设备。 它是标准化，模块化和可定制的。该装置可用于制备单层或多层铁电薄膜，导电膜，合金膜，半导体膜，陶瓷膜，介电膜，光学膜，氧化物膜，硬膜，PTFE膜等。 与同类设备相比，这种三靶磁控溅射镀膜机不仅用途广泛，而且具有体积小，操作简便的优点，是实验室制备材料膜的理想设备。

UPS三靶磁控溅射镀膜机是我公司自主研发的高性价比的磁控溅射镀膜设备。 它是标准化，模块化和可定制的。该装置可用于制备单层或多层铁电薄膜，导电膜，合金膜，半导体膜，陶瓷膜，介电膜，光学膜，氧化物膜，硬膜，PTFE膜等。 与同类设备相比，这种三靶磁控溅射镀膜机不仅用途广泛，而且具有体积小，操作简便的优点，是实验室制备材料膜的理想设备。

磁控镀膜仪的典型实用案例，涵盖科研、工业及教学领域，体现其多功能性和广泛应用价值：

 1. 科研领域——纳米光学薄膜制备

·         应用场景：某高校光学实验室利用Au靶（金靶）在玻璃基片上沉积纳米级金薄膜，用于表面等离子体共振（SPR）传感器研究。
优势：

·         膜厚可控（10~200nm），均匀性高（±3%），确保光学性能稳定。

·         真空环境避免氧化，获得高纯度纳米金膜。

2. 电子行业——透明导电薄膜（ITO）镀膜

·         应用场景：柔性电子企业使用ITO靶（氧化铟锡）在PET塑料基材上镀制透明导电层，用于触摸屏电极。
优势：

·         低功率溅射（RF模式）避免基材热损伤，膜层电阻≤100 Ω/sq。

·         桌面型设备节省空间，适合小批量试产。

3. 材料改性——刀具硬质涂层（TiN）

·         应用场景：机械加工实验室在高速钢刀具表面镀TiN（氮化钛）涂层，提升耐磨性。
工艺要点：

·         通入氮气反应溅射，形成金黄色TiN膜，硬度达2000 HV。

·         基片加热至300°C，增强膜基结合力。

 4. 教学演示——磁控溅射原理实验

·         应用场景：大学材料学院开设《薄膜技术》课程，学生用Al靶（铝靶）在硅片上镀膜，观察沉积速率与气压的关系。
教学价值：

·         直观展示真空镀膜流程，帮助学生理解溅射机理。

·         小型设备安全易操作，适合分组实验。

 5. 新能源——太阳能电池电极（Ag）

·         应用场景：光伏研究所用Ag靶（银靶）在硅片背面镀制电极，减少接触电阻。
效果：

·         高导电银膜（电阻率<2 μΩ·cm）提升电池转换效率。

·         靶材利用率＞70%，降低实验成本。

UPS三靶磁控溅射镀膜机技术参数  ：