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三靶磁控溅射镀膜仪
简要描述:

三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

  • 产品型号:CY-MSH325-III-DCDCRF-SS
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-06
  • 访  问  量:88

详细介绍

品牌CYKY价格区间10万-30万
产地类别国产应用领域生物产业,电子/电池,钢铁/金属,航空航天,汽车及零部件

三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。


镀膜仪配有两路高精度质量流量计,客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路,以满足复杂的气体环境构建需求;仪器标配的涡轮分子泵组,极限真空可达1.0E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制,可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品,大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制,在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能,可以进一步提高您的实验效率。

磁控溅射镀膜仪技术参数:  


磁控溅射镀膜仪(直流电源+射频电源)

产品型号

CY-MSH325-III-DCDCRF-SS

样品台


尺寸

φ140mm

控温精度

±1℃

加热温度

*高500℃

转速

1-20rpm可调

磁控溅射头


数量

2" x3 (1",2"可选)

水冷机规格

10L/min流速的循环水冷机

冷却方式

水冷

真空腔体


腔体尺寸

Dia.300mm×300mm

观察窗口

φ100mm

开启方式

上顶开式

腔体材料

不锈钢

质量流量计

2路;量程100sccm;100sccm(可根据客户需要定制多路气路)

真空系统


产品型号

CY-GZK103-A

抽气接口

CF160

分子泵

CY-600

排气接口

KF40

前极泵

旋片泵

真空测量

复合真空计

极限真空

1.0E-5Pa

供电电源

AC;220V 50/60Hz

抽气速率

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  综合抽气性能:20分钟真空度可达: 1.0E-3Pa

电源配置

数量

直流电源x2  射频电源 x1

*大输出功率

直流电源500W 射频电源500W


其他


供电电压

AC220V,50Hz

整机尺寸

600mm X 650mm X 1280mm

整机重量

300kg

整机功率

4KW

极限真空度

1.0E-5Pa


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