小型高真空双源热蒸发镀膜仪可提供100A的镀膜电流，蒸发温度可达1800℃，能够满足各种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀。

高真空电子束蒸发镀膜仪主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜

三源高真空热蒸发镀膜仪主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜

5英寸近源有机物蒸发镀膜炉是一种双加热区快速热处理炉，它是研究新一代太阳能电池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和钙钛矿太阳能电池。

多源真空蒸发镀膜仪还适用于对氧敏感的金属薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸镀，也适用于各种氧化物材料的蒸镀。

卷绕式高真空蒸发镀膜仪可用于不同种类的材料的薄膜生长，大多数金属和某些有机材料薄膜，如金属、半导体、氧化物等