高真空水冷热蒸发镀膜仪，钨丝篮（或钨舟）用作蒸发源，并且样品台和蒸发源之间的距离是可调的。 该仪器可以稳定地蒸发金属和某些有机物。 采用高真空不锈钢腔体，密封性能好，真空性能好。 该腔室配有观察窗，因此可以看到涂层过程。 采用分子泵系统的最大真空10E-5Pa，可有效提高涂层质量，并能满足大多数蒸发涂层实验所需的真空环境

多源真空蒸发镀膜仪还适用于对氧敏感的金属薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸镀，也适用于各种氧化物材料的蒸镀

本产品为桌面型双源蒸发镀膜仪，设备安装有两套蒸发源，各蒸发源分别供电，可交替开启也可同时开启；每个蒸发源可提供最大100A的镀膜电流，最大蒸发温度可达1800℃，能够满足各种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀

多源高真空蒸发镀膜仪设备采用前开门式真空腔体设计，腔体空间大，可拓展性强，能够满足多样式大尺寸样品的蒸发镀膜。腔体内配有上置样品台，可根据用户样品样式选取夹持或卡位式样品安装部件。

桌面型有机源蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中，材料需要获得足够的热能以克服分子间的结合能，从而转变为气态分子并从蒸发源表面逸出 。这些气态粒子在输运过程中基本上无碰撞地直线飞行到基底表面，并在那里凝聚形核生长成固相薄膜。

高真空双源热蒸发镀膜仪适用于蒸发涂覆大多数金属和某些有机材料薄膜。 该仪器可以稳定地蒸发金属和某些有机物。 采用高真空不锈钢腔体，密封性能好，真空性能好。