三源高真空热蒸发镀膜仪主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜

简单介绍：

三源高真空热蒸发镀膜仪应用于金属和介电膜,薄膜传感器的制造,光学元件,纳米与微电子,太阳能电池。

详情介绍：

设备采用前开门式真空腔体设计，腔体空间大，可拓展性强，能够满足多样式大尺寸样品的蒸发镀膜。腔体内配有上置样品台，可根据用户样品样式选取夹持或卡位式样品安装部件。样品台可旋转、水冷，所有操作均通过触控屏集成控制。设备的真空泵组为两级式真空系统，由双极旋片真空泵和涡轮分子泵组成，可为真空镀膜试验提供清洁无油的高真空的环境；真空系统内含有完善的气动阀系统，用户可通过触控屏进行一键式操作实现抽取真空、不停机取放样、停机等操作。

详情介绍：

本设备的蒸发源共三组，采取钨舟蒸发源，水冷式铜电极，温度可达1800℃，可实现多种难熔金属的蒸镀，三组独立热蒸发源，不会导致镀材互相污染。本设备采用一体化设计，腔体和电控部分左右分置，实现了水电分离。电控部分采用触控屏和按钮面板相结合的设计，真空系统、样品台等辅助功能通过触控屏一键操作，通电蒸发、膜厚控制等通过面板独立操作，在尽可能方便用户的同时规避了误操作的可能。该设备设计完善，是实验室高精度蒸发镀膜试验之选。

应用领域：

金属和介电膜,薄膜传感器的制造,光学元件,纳米与微电子,太阳能电池。

技术参数：