可程控磁控溅射镀膜仪为单腔室结构，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、离子轰击、公转基片台、光加热系统、溅射电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和控制系统等组成。

恢复真空时间  

系统从大气抽至1.0×10-3 Pa≤15min  

均匀性  

膜厚不均匀性≤±5%；片间不均匀性≤±5%；批次间不均匀性≤±5%  

溅射真空室  

圆筒形结构，尺寸Ф800mm×250mm  

磁控溅射系统  

永磁靶4支，靶材尺寸6英寸；  

配1台进口电源（射频或直流脉冲可选）；  

溅射速率：0.5～5埃/秒（靶材Al）  

公转基片台  

6英寸6片，（4英寸12片或3英寸16片）；  

基片公转3～15转/分，连续可调，可选配公自转复合工件台  

光加热系统  

样品加热温度：室温～250℃，连续可调；  

基片温度不均匀性：≤±10℃；  

控温方式为PID自动控温及数字显示，配备进口控温表  

工作气路  

2路质量流量控制器气路  

抽气机组成  

低温泵（进口）、罗茨干泵机组、气动闸板阀（进口）、管路等  

真空测量  

2个真空计（进口）对系统真空、工作真空及前级真空进行**检测；真空度在工控机触膜屏上可直观显示；可准确监控溅射镀膜工艺过程的真空度  

控制系统  

系统由工控机（触摸屏）和进口PLC实现对整个系统的控制  

占地面积  

主机  

1500×1000mm²  

电控柜  

700×700mm²（一个）