双靶磁控溅射镀膜仪采用靶下置样品台在上方的布局。双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)两个靶位，直流射频双电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜。

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