1100℃16通道管式炉针对于高通量样品烧结,退火和淬火使用,其*高温度可达1100℃。每个加热模块都由独立的温控系统控制,每个炉管都是采用真空法兰密封可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理
该管式炉可以用于抽真空和通气氛,所以又叫真空管式炉和气氛管式炉还叫CVD管式炉和实验管式炉,广泛用于各种反应温度在1200℃以下的CVD实验、真空烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。加热温区:220mm+220mm;恒温区:100mm+100mm;炉管直径:100mm;炉管长度:1000mm;整机功率:2.5KW;多段程序控温。
1200℃三温区管式炉可以用于抽真空和通气氛,所以又叫真空管式炉和气氛管式炉还叫CVD管式炉和实验管式炉,1200℃三温区管式炉广泛用于各种反应温度在1200℃以下的CVD实验、真空烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。加热温区:220mm+440mm+220mm;恒温区:100mm+200mm+100mm;炉管直径:100mm;炉管长度:1400mm;整机功率:5KW;多段程序控温。