等离子溅射和碳蒸发二合一镀膜仪是一款二合一紧凑型涂层装置,配有双级旋转叶片真空泵,可将等离子溅射和蒸发集成到一台小型机器中。等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪专门用于制备SEM和EDAX样品,低成本下用于材料分析中的微观结构和微区成分分析,可以涂覆各种材料,包括碳。
碳钨蒸发等离子溅射复合镀膜仪可进行真空蒸碳、真空热蒸发和等离子溅射,它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理,蒸发等离子溅射复合镀膜仪采用机械泵和分子泵,实现高真空。
等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件,不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。仪器元件高度集成化,在同一个腔体内即实现了两种镀膜功能;本镀膜仪采用304不锈钢腔体作真空腔体,镀膜过程可见。仪器标配双极旋片真空泵,能够快速达到1.0E-3Pa的真空度,极限真空度1.0E-5Pa,可满足大多数蒸发镀膜实验和二极溅射实验所需的真空环境。
双靶磁控及蒸发复合镀膜仪包括不锈钢真空腔体、磁控溅射靶,蒸发镀膜装置,放置样品的样品台,真空泵机组、真空测量规管,进气系统和控制系统组成。可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。