半导体薄膜电子束蒸发镀膜仪，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料

本产品为桌面型石英腔体小型蒸发镀膜仪，可提供最大100A的镀膜电流，最大蒸发温度可达1800℃，能够满足各种常见金属及部分非金属的蒸镀

本产品为桌面型热蒸发镀膜仪带膜厚仪，可提供最大100A的镀膜电流，最大蒸发温度可达1800℃，能够满足各种常见金属及部分非金属的蒸镀

本产品为专为高真空设计的桌面型不锈钢腔体蒸发镀膜仪，可提供最大100A的镀膜电流，最大蒸发温度可达1800℃，能够满足各种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀

热蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。桌面型三源蒸发镀膜仪在蒸发过程中，材料需要获得足够的热能以克服分子间的结合能，从而转变为气态分子并从蒸发源表面逸出

CY-EVZ254-II-HH-SS 电阻蒸发镀膜仪，可提供最大100A的镀膜电流，最大蒸发温度可达1800℃，能够满足各种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀