三源高真空热蒸发镀膜仪应用于金属和介电膜,薄膜传感器的制造,光学元件,纳米与微电子,太阳能电池.

高真空双源热蒸发镀膜仪适用于蒸发涂覆大多数金属和某些有机材料薄膜，该仪器可以稳定地蒸发金属和某些有机物。 采用高真空不锈钢腔体，密封性能好，真空性能好

桌面型不锈钢腔体热蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中，材料需要获得足够的热能以克服分子间的结合能，从而转变为气态分子并从蒸发源表面逸出 。这些气态粒子在输运过程中基本上无碰撞地直线飞行到基底表面，并在那里凝聚形核生长成固相薄膜

本产品为专为高真空设计的小型高真空热蒸发镀膜仪，可提供最大100A的镀膜电流，最大蒸发温度可达1800℃，能够满足各种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀

小型温控蒸发镀膜仪，可提供最大100A的镀膜电流，最大蒸发温度可达1800℃，能够满足各种常见金属及部分非金属的蒸镀

近距离有机物蒸发镀膜炉是一种双加热区快速热处理炉，具有11“外径的石英管。它是专为PVD或CSS(近距离升华)薄膜涂层3英寸直径或2“×2“。近距离蒸发镀膜炉采用两组卤素加热器(顶部和底部)，zui大加热速率20ºC/s。两个30段精密温度控制器内置，精度为+/-1ºC。包括RS485端口和控制软件，允许通过PC操作炉子和温度曲线记录。它是研究新一代太阳能电池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和钙