一、产品简介

半导体超导带材卷对卷离子束沉积磁控溅射（Roll-to-Roll Ion Beam Assisted Deposition System for HTS Tape）是面向第二代高温超导带材（REBCO 涂层导体）缓冲层制备的专业薄膜沉积装备。本系统采用卷对卷连续走带方式，金属基带（如 Hastelloy C276 合金带或不锈钢带）在真空腔室内连续行进，通过离子束辅助沉积（IBAD）工艺在基带表面沉积具有双轴织构的 MgO 模板层，为后续外延生长 LaMnO₃、CeO₂ 等缓冲层及超导层提供结晶取向基础。

本系统将离子束辅助沉积单元、卷对卷传动单元、真空与温控单元及自动化控制单元集成为一体，具备连续化、自动化、可重复性高的特点，是超导带材规模化制备的关键工艺装备。

二、应用领域

本系统广泛应用于以下领域：

（一）第二代高温超导带材（REBCO 涂层导体）的缓冲层制备，为超导层外延生长奠定双轴织构基础；

（二）超导电缆、超导磁体、超导电机等超导应用器件所需的带材基材制备；

（三）核磁共振（MRI）、粒子加速器、聚变装置等强磁场应用场景的超导带材供应；

（四）高性能双轴织构薄膜的制备与研究，包括 MgO、LaMnO₃、CeO₂ 等织构功能薄膜；

（五）金属基带表面织构化处理及功能薄膜连续沉积等材料制备工艺研究。

三、核心优势

（一）连续化卷对卷工艺：带材连续走带、放收卷一体化，带材利用率高，适合规模化连续生产；

（二）双轴织构可控：离子束能量、束流密度与入射角精确可调，实现高取向度 IBAD-MgO 模板层；

（三）张力闭环控制：走带张力实时闭环调节，带材运行平稳，沉积均匀性高；

（四）模块化腔体设计：放卷、沉积、收卷多腔室模块化布局，可扩展多种缓冲层沉积工艺；

（五）自动化程度高：PLC 与工控机联动，触摸屏人机界面，工艺参数可编程、可追溯。

四、技术参数