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双靶磁控溅射镀膜仪
简要描述:

双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等

  • 产品型号:CY-MSH300-II-RF​DC-SS
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-07
  • 访  问  量:55

详细介绍

品牌CYKY价格区间10万-30万
产地类别国产应用领域电子/电池,道路/轨道/船舶,钢铁/金属,航空航天,汽车及零部件

双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点,镀膜速率高,样品温升低,是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层,水冷机能够有效的带走热量,避免热量在靶面聚集,使磁控镀膜能长时间稳定工作。与同类设备相比,这款双靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛,且体积小便于操作,是一款实验室制备薄膜的理想设备。

技术参数:


项目  

明细  

产品型号
CY-MSH300-II-RFDC-SS

供电电压  

AC220V50Hz  

整机功率  

3KW  

极限真空度  

10-6torr  

载样台参数  

 

 

 

尺寸  

φ140mm  

加热温度  

*高500  

控温精度  

±1  

转速  

1-20rpm可调  

磁控溅射头参数  

 

 

数量  

22"磁控溅射头  

冷却方式  

水冷,所需流速10L/min  

水冷机规格  

16L/min流速的循环水冷机  

真空腔体  

 

 

 

腔体尺寸  

φ300mm X 300mm H  

腔体材料  

不锈钢  

观察窗口  

φ100mm  

开启方式  

上顶开式,便于更换靶材  

气体流量控制器  

4路分别通N2ArO2,空气;量程均为0-500sccm  

真空泵  

配有一套分子泵系统,抽速600L/S  

膜厚仪  

石英振动薄膜测厚仪一台,分辨率0.10 Å  

溅射电源  

直流电源一台,500W,适用于制备金属膜  

射频电源一台,300W,适用于非金属镀膜  

操作方式  

面板按钮操作  

整机尺寸  

1400mm X 750mm X 1300mm  

整机重量  

300kg  



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