详细介绍
品牌 | CYKY |
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不锈钢腔体匀胶机旋涂仪是一种用于制备薄膜的仪器,广泛应用于材料学、物理学、化学等领域。它的主要工作原理是在高速旋转的基片上,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,从而制备出均匀、致密、厚度可调的薄膜。不锈钢腔体匀胶机被认为是制备高质量样品的重要工具之一。
匀胶机主要由基座、旋转盘、传动装置、抽气装置、注解系统和数显温控器等多个部分组成。其制备过程可以分为以下步骤:将溶液放在旋转盘上;启动旋转盘进行离心作用;控制旋转速度和时间使其形成想要厚度的薄膜;*后利用抽气装置去除涂层表面的余胶。
使用时,匀胶机需要准备一定数量的所需材料的溶液或混合物,通常使用有机溶剂或水作为稀释剂,并加入表面活性剂以改善黏度和表面张力。混合物的配方应该根据所需薄膜的化学性质和厚度来确定。
此外,不锈钢腔体匀胶机采用的精密电机,其转速能达到很高,例如10000转/分,这有效地保障了成膜的均匀性。同时,它可能采用触控屏控制,可以预设匀胶曲线,从而大大简化了使用过程并降低了学习成本。
请注意,不同的不锈钢腔体匀胶机可能有不同的特点和功能,因此在具体选择和使用时,建议参考相关产品的说明书或咨询专业人士。
不锈钢腔体匀胶机的主要用途是将液态或胶体材料均匀涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上,形成薄膜。这种设备广泛应用于各种领域,包括但不限于光刻胶旋涂、生物培养基制作以及溶胶凝胶法制作高分子薄膜等。
具体来说,不锈钢腔体匀胶机通过高速旋转基片,利用离心力使胶液均匀地分布在基片表面,形成一层均匀、致密的薄膜。这种薄膜的厚度和均匀性可以通过控制旋转速度和时间来调节,以满足不同应用的需求。
在光刻胶旋涂中,不锈钢腔体匀胶机用于在硅片或其他基片上制备光刻胶薄膜,这是制造半导体器件和集成电路的关键步骤。在生物培养基制作中,匀胶机则用于制备均匀的生物培养基薄膜,用于细胞培养和组织工程等研究。此外,在溶胶凝胶法制作高分子薄膜时,不锈钢腔体匀胶机同样发挥着重要作用。
总的来说,不锈钢腔体匀胶机在材料科学、半导体制造、生物学等多个领域中都有广泛的应用,为科研和生产提供了重要的技术支持。
不锈钢腔体匀胶机旋涂仪技术参数:
供电电压 | AC220V 50Hz |
转速 | -3000~3000 rpm |
2000 rpm/S | |
转速分辨率 | 1rpm |
转速精度 | ±1 rpm(50~3000 rpm) |
单步时间 | 3000s |
基片尺寸 | 基片尺寸规格:4/6/8 寸标准晶圆,固定 300mm 金属 frame,晶圆厚度:80-100um |
腔体材质 | 上等不锈钢,可拆卸组合式 CUP,方便清洗 |
自动摆臂 | 摆臂速度:1~30°/S;材质:铝合金;数量:1 |
管路 | 1.管路数量:4 2.自动摆臂:1 路 N2,1 路高压水,1 路胶;固定臂:1 路高压水 3.高压水压力范围:1~12Mpa(10-120bar) 4.水压大小可以通过通信协议设置 5.氮气流量大小可通过通信协议设置 |
滴胶方式 | 胶粘度:40~60cp; 供胶方式:气动胶泵(带液位检测) 补液方式:手动补液 . |
载物盘
| 数量:1 材质: 微孔盘 ,载物盘具有升降功能 尺寸:适合 4/6/8 寸标准晶圆+300mm 金属 frame 基片固定方式:真空吸附方式+夹持 真空检测:数字式压力传感器 |
控制系统 | 控制系统:采用 PLC 控制 ,模块化 无需触摸屏。 程序:100 组,每组 100 步,单步*大 3000.0S,时间分辨率:0.1S 程序可保存、调用、修改、删除 设置加密权限:分别为设备操作员、技术员、管理员、 厂商 信号塔类型:红、黄、绿 3 色 与主设备机器人对接(**互锁) 程序:包括原点定位+顶升+两路高压控制+漏液报警+软件配合 |
**保护 | 有防漏电断路保护装置 底部装有漏液传感器,机台漏液会有报警提示 有可靠的接地装置及紧急停止和报警系统 真空不足报警,异常报警的情况下将严禁运行设备 |
是否支持定制 | 是的 |
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