离子源电子束蒸发镀膜仪主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜

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详细介绍

品牌	其他品牌	价格区间	5万-10万
产地类别	国产	应用领域	地矿,能源,建材/家具,电子/电池,钢铁/金属

简单介绍：

离子源电子束蒸发镀膜仪主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜

用于制造各种光学元件上的增透膜、反射膜、滤光膜等。如在镜片上镀制增透膜可减少反射光，增加透光率，提高成像质量；在激光反射镜上镀制高反射率膜，能有效提高激光的反射效率。

在新材料的研发过程中，可利用离子源电子束蒸发镀膜仪制备各种新型薄膜材料，研究其物理、化学和光学等性能，为新材料的开发和应用提供基础数据支持。

该仪器可用于研究材料的表面改性、界面特性等表面科学问题。通过控制镀膜工艺参数，制备不同结构和性能的薄膜，深入了解材料表面与薄膜之间的相互作用，为表面工程技术的发展提供理论依据。

技术参数：

使用条件	环境温度	5℃～40℃
	电源	380V
	功率	≤20KW
	水压	≤2.5bar
真空室尺寸	蒸发室尺寸	φ500×H500(㎜)
真空室尺寸	过渡仓库	φ280×H300(㎜)
电子枪	新型电子枪1套，6穴坩埚
离子源	考夫曼离子源K08一套
样品转盘	样品尺寸：≤φ150mm，样品可旋转，也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500℃
系统真空度	极限真空	经12～24小时烘烤，连续抽气≤5x10-5Pa
	抽气速率	从大气开始40分钟内真空度≤5x10-4Pa
	系统漏率	整机漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵关机12小时后，测量真空室真空度≤10Pa
抽真空系统	TY1200分子泵+机械泵(VRD-30)系统，并设置旁路抽气
镀膜监测	采用TM160膜厚仪进行监测
镀膜厚度的不均匀度	≤3%

离子源电子束蒸发镀膜仪

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