本设备为带过渡舱三靶磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备

项目

明细

产品型号

CY-MSH325G-III-DCDCRF-SS

供电电源

VAC 110, 60Hz

样品台

位置

下部，带挡板

直径尺寸

φ150mm

可调转速

0-20rpm 可调

加热温度

RT~500^oC

真空腔体

腔体尺寸

φ325xH510mm

腔体材料

304 不锈钢

内壁处理

电解抛光

密封方式

氟橡胶密封

观察窗口

φ100mm（带挡板）

磁控靶枪 

数量

3

摆头角度

可调角度 -45~45 度

溅射方向

向下溅射

靶材平面

圆形平面靶

靶材直径

2英寸

靶材厚度

*厚3mm

直流电源

数量

2台

电源功率

0~500W

输出电压

0～600V

*大输出电流

1A

启动时间

1~10S

射频电源

数量

1台

电源功率

0~500W

射频频率

13.56MHz

匹配方式

自动匹配

反射功率

≦100W

功率稳定性

±0.1%

膜厚监测仪

通道数

单通道

测量精度

0.1 Å

测量速度

100ms-1s/次，可设置测量范围：500000Å（铝）

标准传感器晶体

6MHz

适用晶片尺寸

Φ14mm

真空系统

前级泵

双极旋片泵，抽速1.1L/s

涡轮分子泵

抽速600L/s

额定转速：27000rpm

启动时间：≦5min

冷却方式：水冷

真空度

5x10^-4Pa

真空测量

复合真空计，测量范围10^-5Pa ~ 10⁵ Pa

过渡仓

腔体尺寸要适用于*大4英寸的晶圆

配备分子泵组：

前级泵：VRD-4，抽速1.1L/s

分子泵：日本TG60F，抽速60L/s

水冷机

冷却水流速

10L/min

整机功率

0.1KW

冷却功率

50W/℃

水箱容量

9L

气体控制

1路质量流量计：Ar气，范围0-200sccm

控制系统

CYKY自研专业级控制系统