三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备

产品型号：CY-MSH500X-III-DCDCRF-SS
厂商性质：生产厂家
更新时间：2025-09-06
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详细介绍

品牌	其他品牌	价格区间	30万-50万
产地类别	国产	应用领域	能源,电子/电池,钢铁/金属,汽车及零部件,电气
真空腔体	直径≦100mm的平面样品均可	样品台尺寸	直径≦100mm的平面样品均可
磁控靶	普通永磁靶，可调角度	靶材尺寸	直径2英寸，厚度≦3mm,
溅射功率	500W

三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选购；所配电源为500W直流电源和500W射频电源，直流电源可用于金属薄膜的制备，射频电源可用于非金属膜的制备，三个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要，可以定制其他射频电源和脉冲电源，各型电源均有300W到1000W多种规格可选。
镀膜仪配有两路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。
三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备

技术参数：

项目		明细
产品型号		CY-MSH500X-III-DCDCRF-SS
供电电压		AC220V，50Hz
整机功率		4KW
系统真空		≦5×10^-4Pa
样品台	外形尺寸	φ150mm
	加热温度	≦600℃
	控温精度	±1℃
	可调转速	≦20rpm
磁控靶枪	靶材尺寸	直径Φ50.8mm，厚度≦3mm
	冷却模式	循环水冷
	水流大小	不小于10L/Min
真空腔体	腔体尺寸	直径φ500mm，高度420mm
	腔体材质	SUU304不锈钢
	观察窗口	直径φ100mm
	开启方式	前开式
气体控制	1路质量流量计用于控制Ar流量
真空系统	配分子泵系统1套，气体抽速600L/S
膜厚测量	可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å
溅射电源	直流电源功率500W*2 射频电源功率500W
控制系统	CYKY自研专业级控制系统
设备尺寸	600mm×650mm×1280mm
设备重量	350kg

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