RTP快速退火炉柜式是一种用于半导体制造和材料处理的设备，RTP快速退火炉核心特点是快速升降温和jingque温控，RTP退火炉适用于短时高温工艺。

晶圆RTP退火炉柜式是一种用于半导体制造和材料处理的设备，RTP快速退火炉核心特点是快速升降温和jingque温控，RTP退火炉适用于短时高温工艺。

智能型滑动式快速退火炉可搭配石英管、刚玉管使用，实现多种实验功能。如用于CVD法制备石墨烯；还可广泛用于各种反应温度在25~1600℃左右的各种CVD实验、真空烧结、气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多个研究领域。

卤素灯RTP退火炉是一款6寸片快速退火炉，采用革新的加热技术，可实现真正的基底温度测量，不需要采用传统快速退火炉的温度补偿，温度控制**，温度重复性高，客户包括国际上许多半导体公司及科研团队，是半导体制程退火工艺的理想选择

高真空RTP快速退火炉由我公司自主研发的功能强大的加热设备。该产品采用进口红外线加热管加热，造型新颖结构合理，炉体和炉管可以自由滑动，可实现快速升降温

1200℃真空RTP退火炉是一款12寸片快速退火炉，采用革新的加热技术，可实现真正的基底温度测量，不需要采用传统快速退火炉的温度补偿，温度控制**，温度重复性高，客户包括国际上许多半导体公司及科研团队，是半导体制程退火工艺的理想选择