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PLD脉冲激光沉积蒸发镀膜仪操作

发表时间:2025-08-07      点击次数:487

PLD脉冲激光溅射沉积设备系列设备主要用于生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和有机化合物薄膜材料,尤其适用于生长高熔点、多元素及含有气体元素的复杂层状超晶格薄膜材料。

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