本设备为多弧等离子镀膜设备。多弧离子镀是利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。本设备配有两个多弧靶，分置于腔体两侧。配合行星式样品台可有效的提高镀膜效率，改善成效果该镀膜仪还采用一体化设计，腔体和电控部分左右分置，实现了水电分离，有力的保证了用户的**。

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