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三靶向上磁控溅射镀膜仪
简要描述:

三靶向上磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介电薄膜、光学薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

  • 产品型号:CY-MSH325X-DCDCRF-SS
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-07
  • 访  问  量:74

详细介绍

品牌CYKY价格区间10万-30万
产地类别国产应用领域电子/电池,道路/轨道/船舶,钢铁/金属,航空航天,汽车及零部件

三靶向上磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的高性价比磁控溅镀设备,具有标准化、模块化、定制化的特点。该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介电薄膜、光学薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,三种靶材可以满足多层或多层涂层的需要。与同类设备相比,三靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛,而且具有体积小、操作方便等优点。它是实验室制备材料薄膜的理想设备。

三靶向上磁控溅射镀膜仪  

三靶向上磁控溅射镀膜仪技术参数:  

 

项目  

明细  

产品型号  

CY-MSH325X-DCDCRF-SS  

供电电压  

AC220V50Hz  

整机功率  

6KW  

系统真空  

5×10-4Pa  

样品台  

外形尺寸  

φ150mm  

加热温度  

750℃  

控温精度  

±1  

可调转速  

20rpm  

磁控靶枪  

靶材尺寸  

直径Φ50.8mm,厚度3mm  

冷却模式  

循环水冷  

水流大小  

不小于10L/Min  

靶枪数量  

3  

真空腔体  

腔体尺寸  

直径φ325mm,高度600mm  

腔体材质  

SUU304不锈钢  

观察窗口  

直径φ100mm  

开启方式  

前面开启  

气体控制  

1路质量流量计用于控制Ar流量,量程为:200SCCM  

真空系统  

配分子泵系统1套,气体抽速600L/S  

膜厚测量  

可选配石英晶体膜厚仪,分辨率0.10 Å  

溅射电源  

直流电源功率500W*2,射频电源功率300  

控制系统  

CYKY自研专业级控制系统  

真空计  

电阻规真空计  

设备尺寸  

1090mm×900mm×1250mm  

设备重量  

350kg  


  




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