双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪紧凑型磁控溅射系统，具有双靶2“目标源，例如，一个直流源用于涂覆金属薄膜，另一个射频源用于涂覆非金属材料。高真空磁控等离子溅射镀膜仪设计用于涂覆单层或多层薄膜，适用于各种材料，如合金、铁电、半导体、陶瓷、电介质、光学、聚四氟乙烯等。

双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪紧凑型磁控溅射系统，具有双靶2"目标源，例如，一个直流源用于涂覆金属薄膜，另一个射频源用于涂覆非金属材料。高真空磁控等离子溅射镀膜仪设计用于涂覆单层或多层薄膜，适用于各种材料，如合金、铁电、半导体、陶瓷、电介质、光学、聚四氟乙烯等。

双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪主要特点：  

1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。  

磁控镀膜仪的典型实用案例，涵盖科研、工业及教学领域，体现其多功能性和广泛应用价值：

1. 科研领域——纳米光学薄膜制备

2. 电子行业——透明导电薄膜（ITO）镀膜

3. 材料改性——刀具硬质涂层（TiN）

4. 教学演示——磁控溅射原理实验

高真空磁控等离子溅射镀膜仪技术规格：  

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