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单靶直流磁控溅射镀膜仪
简要描述:

单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-06
  • 访  问  量:107

详细介绍

品牌其他品牌价格区间1-5万
产地类别国产应用领域地矿,能源,建材/家具,电子/电池,钢铁/金属

简单介绍:

该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

详情介绍:

单靶直流磁控溅射镀膜仪经过紧凑化设计,实现了体积与性能的平衡,造型美观功能齐全。整机均采用触控屏控制,内置一键式镀膜程序,操作简单易上手,是一款实验室制备薄膜的理想设备。

单靶为一支强磁靶,所配电源为 1台1500W 直流电源,直流电源可用于金属薄膜的制备。

镀膜仪配有一路高精度质量流量计,客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路,以满足复杂的气体环境构建需求;仪器标配涡轮分子泵组,极限真空可达 1.0E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制,可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品,大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制,在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能,可以进一步提高您的实验效率。

应用范围:

该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

单靶直流磁控溅射镀膜仪

规格参数:


单靶直流磁控溅射镀膜仪

样品台

外形尺寸

Φ360mm

可调转速

1-20rpm可调

磁控靶枪

靶材平面

圆形平面靶

溅射真空

0.1Pa~3Pa

靶材直径

100~101.6mm

靶材厚度

3mm

绝缘电压

>2000V

电缆规格

SL-16

靶头温度

≦65℃

真空腔体

内壁处理

电解抛光

腔体尺寸

Φ500mm × 500mm

腔体材料

304不锈钢

观察窗口

石英窗口,直径φ100mm

开启方式

侧面开启

气体控制

流量控制

质量流量计,量程0~100SCCM

气体种类

可选氩气、氮气、氧气等多种气体

调节阀类型

电磁调节阀

调节阀静止状态

常闭

测量线性度

±1.5%F.S

测量重复精度

±0.2%F.S

测量响应时间

≤8秒(T95)

工作压差范围

0.3MPa

阀体耐压

3MPa

工作环境温度

(5~45)℃

阀体材料

不锈钢316L

阀体漏率

1×10-8Pa.m3/s

管道接头

1/4″卡套接头

输入输出信号

0~5V

供电电源

±15V(±5%)(+15V  50mA,  -15V  200mA)

外形尺寸mm

130(宽)×102(高)×28(厚)

通讯接口

RS485 MODBUS协议

直流电源

电源功率

1500W

膜厚测量

电源要求

DC:5V(±10%) *大电流 400mA

分辨率

±0.03Hz(5-6MHz),0.0136Å /测量(铝)

测量精度

±0.5%厚度+1计数

测量周期

100mS~1S/次(可设置)

测量范围

500,000 Å (铝)

晶体频率

6MHz

通讯接口

 RS-232/485串行接口

显示位数

8位LED显示

分子泵

分子泵抽速

1200L/S

额定转速

24000rpm

振动值

≦0.1um

启动时间

5min

停机时间

7min

冷却方式

水冷+风冷

冷却水温度

≦37℃

冷却水流速

1L/min

安装方向

垂直±5°

抽气接口

150CF

排气接口

KF40

前级泵

抽气速率

VRD-16

极限真空

1Pa

供电电源

AC:220V/50Hz

电机功率

400W

噪音

≦56db

抽气接口

KF40

排气接口

KF25

阀门

闸板阀

真空腔体与分子泵间装有闸板阀

切断阀

分子泵与前级之间装有切断阀

旁抽阀

真空腔体与前级之间装有旁抽阀

放气阀

真空腔体上装有电磁放气阀

整机极限真空

≦5×10-4Pa

测试靶材

直径4英寸厚度3mm的镍靶材1块



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