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离子源电子束蒸发镀膜仪
简要描述:

离子源电子束蒸发镀膜仪主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜,微纳器件微加工,电镜样品预处理等,尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜

  • 产品型号:CY-EVP500-EB
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-06
  • 访  问  量:75

详细介绍

品牌CYKY价格区间10万-30万
产地类别国产应用领域电子/电池,道路/轨道/船舶,钢铁/金属,航空航天,汽车及零部件

离子源电子束蒸发镀膜仪主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜,微纳器件微加工,电镜样品预处理等,尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜。  

离子源电子束蒸发镀膜仪技术参数:  


使用条件  

环境温度  

5℃~40℃  

电源  

380V  

功率  

≤20KW  

水压  

≤2.5bar  

真空室尺寸  

蒸发室尺寸  

φ500×H500(㎜)  

过渡仓库  

φ280×H300(㎜)  

电子枪  

新型电子枪1套,6穴坩埚  

离子源  

考夫曼离子源K08一套  

样品转盘  

样品尺寸:≤φ150mm,样品可旋转,也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500℃  

系统真空度  

极限真空  

经12~24小时烘烤,连续抽气≤5x10-5Pa  

 

抽气速率  

从大气开始40分钟内真空度≤5x10-4Pa  

 

系统漏率  

整机漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵关机12小时后,测量真空室真空度≤10Pa  

抽真空系统  

TY1200分子泵+机械泵(VRD-30)系统,并设置旁路抽气  

镀膜监测  

采用TM160膜厚仪进行监测  

镀膜厚度的不均匀度  

≤3%  

离子源电子束蒸发镀膜仪

 


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