石墨烯制备炉的温度、气流及真空采用计算机控制，其中部分功能也可以采用手动控制。计算机实时控制和显示所有与生长有关的实验参数，自动保存实验参数，给实验带来极大的方便，并提高实验的**性。

CY-O1200-80-4ZV10四通道石墨烯制备设备除了用于实验室制备石墨烯外，还可广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验；也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多个研究领域。