5L光学玻璃等离子清洗方案是一种小型化、非破坏性的清洗设备。100瓦/150瓦 5L等离子清洗机采用低气压激发等离子体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。仪器配有一台机械真空泵，在抽真空维持腔体真空度的同时也能将被等离子反应后的污染物通过真空泵抽走；因此短时间的清洗就可以使有机污染物被地清洗掉。

300W 5L等离子清洗机是一种小型化、非破坏性的清洗设备。300瓦 5L等离子清洗机采用低气压激发等离子体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。仪器配有一台机械真空泵，在抽真空维持腔体真空度的同时也能将被等离子反应后的污染物通过真空泵抽走；因此短时间的清洗就可以使有机污染物被地清洗掉。

5L真空等离子清洗机是一种小型化、非破坏性的清洗设备。5L等离子清洗机 500W/1000W采用低气压激发等离子体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。仪器配有一台机械真空泵，在抽真空维持腔体真空度的同时也能将被等离子反应后的污染物通过真空泵抽走；因此短时间的清洗就可以使有机污染物被地清洗掉。

10L半导体等离子清洗设备是一种小型化、非破坏性的清洗设备。100瓦/150瓦 10L等离子清洗机采用低气压激发等离子体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。仪器配有一台机械真空泵，在抽真空维持腔体真空度的同时也能将被等离子反应后的污染物通过真空泵抽走；因此短时间的清洗就可以使有机污染物被地清洗掉。

10L半导体等离子清洗设备是一种小型化、非破坏性的清洗设备。该等离子清洗机采用低气压激发等离子体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。300瓦 10L等离子清洗机配有一台机械真空泵，在抽真空维持腔体真空度的同时也能将被等离子反应后的污染物通过真空泵抽走；因此短时间的清洗就可以使有机污染物被地清洗掉。

10L真空等离子清洗机是一种小型化、非破坏性的清洗设备。该等离子清洗机采用低气压激发等离子体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。10L等离子清洗机 500W/1000W配有一台机械真空泵，在抽真空维持腔体真空度的同时也能将被等离子反应后的污染物通过真空泵抽走；因此短时间的清洗就可以使有机污染物被地清洗掉。