等离子溅射蒸发二合一镀膜仪，可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM（扫描电镜）的样品制备。

等离子溅射蒸发二合一镀膜仪，可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM（扫描电镜）的样品制备。设备主要由石英真空室、等离子溅射靶，蒸发镀膜装置，放置样品的样品台，真空泵机组、真空测量规管，进气系统和控制系统组成。设备主机采用触摸显示屏操作，温控表检测。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发平台。真空室采用上中下结构，样品台与靶的距离灵活可调。设备真空获得系统采用上等双极旋片泵。 具有体积小，噪音小，无油污污染等优点。真空腔体采用石英加工而成，呈现圆柱结构，外形美观，大方。主要密封法兰采用 KF 系列高真空密封法兰。真空腔体各接口均采用橡胶密封圈密封，真空性能优良，能有效镀膜质量。

本产品为二合一镀膜仪，可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM（扫描电镜）的样品制备。设备主要由石英真空室、等离子溅射靶，蒸发镀膜装置，放置样品的样品台，真空泵机组、真空测量规管，进气系统和控制系统组成。
设备主机采用触摸显示屏操作，温控表检测。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发平台。真空室采用上中下结构，样品台与靶的距离灵活可调。
设备真空获得系统采用上等双极旋片泵。 具有体积小，噪音小，无油污污染等优点。
真空腔体采用石英加工而成，呈现圆柱结构，外形美观，大方。主要密封法兰采用 KF 系列高真空密封法兰。真空腔体各接口均采用橡胶密封圈密封，真空性能优良，能有效镀膜质量。
等离子溅射蒸发二合一镀膜仪技术参数：