小型旋转管式炉可实现在气氛保护的环境下对粉末材料用CVD方法进行包裹和修饰。设备采用摩擦传动，无需额外固定，炉管拆卸方便，便于取放样品。

1200℃三温区旋转管式炉采用高纯石英制作炉管。旋转装置为半导体致冷法兰，摩擦传动，倾角（0~15°）任意可调。如果您需要保持物料的单粒结构（如在干燥或煅烧物料时），旋转管式炉是您的理想选择。炉管持续不断的旋转运动和气氛保护的结合应用将为您带来理想的处理结果。

1200℃开启式双温区旋转管式炉，采用高纯石英制作炉管。旋转装置为半导体致冷法兰，摩擦传动，倾角（0~15°）任意可调。如果您需要保持物料的单粒结构（如在干燥或煅烧物料时），是您的Z佳选择。炉管持续不断的旋转运动和气氛保护的结合应用将为您带来Z佳的处理结果。